波前测量仪 | 联合光科
波前测量仪
波前测量仪
波前测量仪
全欧光学WaveMaster波前测量仪用于球面透镜,非球面透镜和光学系统的波前测量,集成了准直系统,扩束或缩束系统,高精度样品台,多种光源和WaveSensor波前传感器。此传感器采用夏克-哈特曼传感器原理,用于平面、球面、非球面面型的检测,光学系统像差检测,输出激光光束质量检测,光束动态变化检测,自适应系统波前的探测,并有针对大口径光学和人工晶体波前检测的解决方案。WaveMaster波前测量仪主要用来测量大型双远心镜头的全场波前,还可给出被测样品的面型(PV和RMS),泽尼克系数(Zernike),点扩散函数(PSF),调制传递函数,斯特列尔比,楔角。同时,该产品也可用于人工晶体在空气中或原位中的检测,晶体低阶和高阶的相差,晶体的调制传递函数(MTF),晶体的点扩散函数(PSF),晶体屈光度和像差。软件具有多种模块功能,简单易用,用户可根据需要进行选择。
产品列表

WaveSensor®波前传感器

WaveSensor®波前传感器
WaveSensor®系列产品是应用哈特曼—夏克传感器的测量原理研制而成的,并配备专门的操作与分析软件,可用于激光光束质量及其动态变化的诊断、光学系统像质的检验、介质扰动对光束质量影响的测量、大型球面镜镜面面形精度的检测等。利用WaveSensor®可获得丰富的光束质量及空间、时间信息,是深入研究激光光束和光学系统质量及其动态变化过程、分析影响因素的有力手段,因此WaveSensor®已成为检测各类大型反射镜面形的一种专用设备。
WaveSensor®波前传感器

应用范围:

  • 常规光学元件面形检测(平面、球面、透镜等)          
  • 大口径光学元件检测
  • 光学系统像差检测
  • 激光器输出波面检测
  • 光束质量诊断
  • 光束动态变化测量
  • 自适应系统的波前探测

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产品编号
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WaveMaster® COMPACT紧凑型波前测量仪

WaveMaster® COMPACT紧凑型波前测量仪
WaveMaster® COMPACT系列产品可以简单快速的完成对球面或非球面镜片波前质量的检测,并运用泽尼克多项式实时分析波前数据,在生产和研发上都有着广泛应用。WaveMaster® COMPACT2 Universal是专业级的波前测量仪,集成了WaveMaster® COMPACT2和WaveMaster® COMPACT2 Reflex所有功能。

应用范围:
  • 各种球面或非球面镜片光学波前面和镜片或镜头的表面面形的检测。
WaveMaster® COMPACT紧凑型波前测量仪
文件
产品编号
产品名称
货期
价格
购买
产品编号 750114 750115 750116
产品型号 WaveMaster® COMPACT 2 WaveMaster® COMPACT 2 Reflex WaveMaster® COMPACT 2 Universal
测量范围 光学镜片的光学波前质量 光学镜片、镜头的表面面型 光学镜片的波前质量及光学镜片、镜头的表面面型
测量模式 透射式 反射式 反射式、透射式
精度指标

   
   波前测量精度:<λ/20 (RMS)
   波前测量重复性:<λ/200 (RMS)
   波前测量动态范围:2000λ
   

  
   表面面形测量精度:<0.050 µm (RMS)
   表面面形测量重复性:<0.005 µm (RMS)
   表面面形动态范围:> 200 µm
   最大非球面度:≤7°
   

   
   波前测量精度:<λ/20 (RMS)
   波前测量重复性:<λ/200 (RMS)
   波前测量动态范围:2000λ
   表面面形测量精度:<0.050 µm (RMS)
   表面面形测量重复性:<0.005 µm (RMS)
   表面面形动态范围:> 200 µm
   最大非球面度:≤7°
   

传感器类型 WaveSensor 150
样品直径

0.5mm…14mm

4.5mm…18mm 透射式:0.5mm…14mm 
反射式:4.5mm…14mm
法兰焦距

-30mm…+100mm

—— -30mm…+100mm
曲率半径

——

-50 mm…300mm -50 mm…300mm
样品夹持器 单孔位,手动调节

WaveMaster®PRO 2 量产型波前测量仪

WaveMaster®PRO 2 量产型波前测量仪
WaveMaster® PRO系列产品是为了适应波前质量的大批量检测的需求而研发的两款仪器,可自行设置合格标准,并根据该标准自动判定合格和不合格。WaveMaster® PRO 2和WaveMaster® PRO 2 reflex配备托盘系统,实现对单个小镜片的大批量检测。WaveMaster® PRO Wafer则可以对晶圆级镜头的波前进行快速检测。

应用范围:

  • 生产线上的大批量镜头波前和表面面形的检测
  • 晶圆级镜头的波前检测
WaveMaster®PRO 2 量产型波前测量仪
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产品编号
产品名称
货期
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产品编号 750118 750119
产品型号 WaveMaster® PRO 2 WaveMaster® PRO 2 Wafer
应用范围 批量测量单个小镜片的波前质量 批量测量晶圆级镜片的波前质量
测量模式 透射式 透射式
空间分辨率 138×138 138×138
测量精度 <λ/20 (RMS) <λ/20 (RMS)
测量重复性 <λ/200 (RMS) <λ/200 (RMS)
动态范围 2000λ 2000λ
测量频率 12Hz 12Hz
测量时间 < 3秒/颗      < 3秒/颗 
样品口径  0.5mm…14mm   0.5mm…14mm 
样品焦距  -12mm…50mm  -12mm…50mm 
光学波长 532nm 532nm
样品夹持器 托盘式,自动定位
多孔位(最多100个)
托盘式,自动定位
晶体托盘(4”/6”/8”)
自动判定晶圆方向

WaveMaster® Field全视场型波前测量仪

WaveMaster® Field全视场型波前测量仪
对于大视场镜头来说,轴外视场的高质量成像是关键。在这里,仅仅在轴上进行波前测量通常是不够的 ,因为没有考虑到高视场角。因此,德国全欧光学(TRIOPTICS)提供了一个解决方案来覆盖这个应用——WaveMaster® Field。
WaveMaster® Field为研发所设计,该系统既可以在±60°范围内对整个视场内的样品进行全面测量,又可以进行后续的深入分析。只需几个步骤就可以对入射角和波长进行灵活调整,以模拟不断变化的照明条件,同样也易于适用不同的样品。
此外,离轴测量增加了对透镜定心的灵敏度,从而可以更精确地优化透镜对所需波前的定位。
WaveMaster® Field全视场型波前测量仪
产品特点 测量参数
  • 视场角高达60°的通用波前检测
  • EFL
  • 灵活简单地调整各个入射角和波长
  • MTF
  • 可变样品架允许适应不同的样品类型-非常适合R&D
  • 畸变
 
  • Zernike分析
文件
产品编号
产品名称
货期
价格
购买
产品编号 750171
产品型号 WaveMaster® Field
应用范围 测量光学系统轴上及轴外的光学波前
测量模式 透射式
微透镜阵列 138×138
样品口径 0.5mm...14mm
样品焦距 -12mm...50mm
被测样品像高 ±20mm
被测样品视场角 ±70°
光源 532nm
测量精度 <λ/20(RMS)
测量重复性 <λ/200(RMS)
动态范围 2000λ
测量频率 12Hz

WaveMaster® PLAN平面元件波前测量仪

WaveMaster® PLAN平面元件波前测量仪
WaveMaster® PLAN适用于使用夏克哈特曼传感器的波前分析对平面进行质量检查。

产品特点
  • 平面光学元件的综合波前分析
  • 快速简便的测量:手动放置样品,并通过X-Y表进行调整
  • 通过抗振结构实现稳定且与环境无关的测量系统
WaveMaster® PLAN平面元件波前测量仪
文件
产品编号
产品名称
货期
价格
购买
产品编号 750173 750174
产品型号 WaveMaster® PLAN WaveMaster® PRO 2 PLAN
测量模式 透射式 透射式
测试波长 532nm 532nm
样品承载台 单孔手动定位 多孔位托盘
波前精度 <λ/20(RMS) <λ/20(RMS)
波前重复性 <λ/200(RMS) <λ/200(RMS)
动态范围 2000λ 2000λ
测量频率 16Hz 取决于样品及托盘设计
微透镜阵列 138×138 138×138
样品口径 0.5mm...14mm取决于望远镜 0.5mm...14mm取决于望远镜

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